Hva er et wafer-hakk?
Et hakk er et lite spor kuttet rett under en silisiumplate, vanligvis i V- eller U-form. Notch har to funksjoner. Den ene er å markere krystallorienteringen til silisiumplaten, som f.eks<100>, <110>, <111>, etc. Den andre funksjonen er å gjøre det mulig for silisiumplaten å bli riktig plassert og justert i halvlederproduksjonsutstyr. Vanligvis finnes hakk i 8-tommers og 12-tommers wafere.
Hvordan ser Notch ut?
Størrelsen på hakket må være strengt i samsvar med SEMI-standarder, som vist i figuren ovenfor:
1. Vw representerer den totale bredden på hakket, og størrelsen er relatert til diameteren og tykkelsen på silisiumplaten.
2. Vh er dybden på hakket, som indikerer den vertikale avstanden fra kanten av silisiumplaten til bunnen av sporet. Den varierer vanligvis fra 1,0 til 1,25 mm. Vh er avgjørende for å sikre innrettingsnøyaktigheten til hakket.
3. AngV, det vil si Notch Angle. AngV er vinkelen på hakket, som er vinkelen mellom kantene av sporet på begge sider. Det er vanligvis mellom 89 grader og 95 grader. Denne vinkelen spiller en avgjørende rolle i geometrien og plasseringen av hakket.
4. R1 og R2 representerer radiene til hjørnene på begge sider av hakket. Disse to radiene bestemmer glattheten til sporhjørnene, påvirker spenningskonsentrasjonen i hakket og påvirker de mekaniske egenskapene til silisiumplaten.
5. Vr er krumningsradiusen i bunnen av hakket, som indikerer størrelsen på buen i bunnen av sporet. Vr kan endre kurveformen og glattheten til hakket. En større Vr kan gjøre bunnen av hakket flatere, noe som bidrar til å redusere stresskonsentrasjonen.
6. Notch-orientering: Retningen til sporet er parallell med den spesifikke krystallorienteringen til waferen, og et avvik på ±2 grader er tillatt.
