Silisiumskiver er en type halvledermateriale, mye brukt innen elektronikk, datamaskiner, kommunikasjon, biler, romfart og andre felt. Silisiumskiver er klassifisert i halvledersilisiumskiver og fotovoltaiske silisiumskiver i henhold til renheten til silisiumskiver; de er klassifisert i polerte wafere, glødede wafere, epitaksiale wafere og SOI wafers i henhold til prosessen; de er klassifisert i 12 tommer\300 mm, 8 tommer\200 mm og 6 tommer\150 mm i henhold til størrelsen, blant annet 200 mm og 300 mm silisiumskiver har et bredere bruksområde.
Silisium wafer klassifisering |
||
| Klassifiseringskriterier | Produktkategorier | introdusere |
| Klassifisering etter silisium wafer renhet | Halvleder silisiumskiver Fotovoltaiske silisiumskiver |
1. Halvledersilisiumskiver er viktige materialer for å lage integrerte kretser. Gjennom fotolitografi, ioneimplantasjon og andre metoder kan det lages integrerte kretser og ulike halvlederenheter. 2. Fotovoltaiske silisiumskiver er silisiumskiver som brukes i det fotovoltaiske feltet. I det fotovoltaiske feltet brukes silisiumskiver for det meste for å fullføre konverteringen av solenergi til elektrisk energi. |
| Klassifisering etter prosess | "Polert oblat Glødet oblat Epitaksial oblat SOI wafer" |
1. Polerskiver er de mest brukte, mest brukte og mest grunnleggende produktene. Andre silisiumwaferprodukter produseres gjennom sekundær prosessering basert på poleringswafere. 2. Glødeskiver oppnås ved å gløde poleringsskivene i et høytemperaturmiljø fylt med argon eller oksygen. Dette kan i stor grad redusere oksygeninnholdet på overflaten av poleringsplaten, og dermed ha bedre krystallintegritet og møte høyere krav til halvlederetsing. 3. Epitaksiale wafere bruker dampfasevekstteknologi på overflaten av poleringswaferen for å epitaksialt vokse et enkelt produktstrukturlag på overflaten av poleringswaferen, slik at overflaten blir jevnere enn poleringswaferen kuttet fra kutting, og dermed redusere overflaten. defekter. 4. SOI-wafere er sandwichstrukturer, det vil si at det nederste laget er poleringsplaten, det midterste er det nedgravde oksidlaget, og det øverste laget er den aktive poleringsplaten, som kan oppnå høy elektrisk isolasjon, og dermed redusere parasittisk kapasitans og lekkasje. |
| Klassifisering etter størrelse | 1 2 tommer \ 3 0 0 mm 8 tommer \ 2 0 0 mm 6 tommer \ 1 5 0 mm |
1. Brukes hovedsakelig i avanserte produkter, som CPU, GPU og andre logiske brikker og minnebrikker, som er den vanlige størrelsen i det nåværende markedet, med en markedsandel på rundt 65~70%. 2. Brukes hovedsakelig i low-end og mid-end produkter, som strømstyringsbrikker, MCU, krafthalvledere, etc., med en markedsandel på ca. 25~27%. 3. Brukes hovedsakelig i low-end og mid-end produkter, for eksempel krafthalvledere, med en markedsandel på nesten 6~7% |
Silisiumskiver er klassifisert i halvledersilisiumskiver og fotovoltaiske silisiumskiver i henhold til deres renhet. I solcellefeltet brukes både monokrystallinsk silisium og polykrystallinsk silisium, med et renhetskrav på ca. 99,9999 % (4-6N). De brukes hovedsakelig til å lage solceller og er mye brukt i fotovoltaiske kraftstasjoner, distribuert solcellekraftproduksjon på taket og andre felt. I halvlederfeltet brukes kun monokrystallinsk silisium. Ettersom prosessen fortsetter å krympe, kreves dens renhet for å nå 99,999999999 % (11N) eller høyere. Den brukes hovedsakelig til å lage brikker og er mye brukt i kommunikasjon, forbrukerelektronikk, biler, industri og andre felt. I renhetsklassifiseringsindeksen for silisiumwafer er den klassifisert etter forskjellige renhetsnivåer, og ppm (dvs. deler per million) brukes vanligvis for å måle renheten. Silisiumskiver brukes til krystallinsk silisium, halvledersilisium, elektronisk silisium, industrielt silisium, produksjonskvalitetssilisium, generelt silisium, etc. i henhold til forskjellige renheter.
Sammenligning mellom halvledersilisiumskiver og fotovoltaiske silisiumskiver |
|||||
| Søknader | Renhetsstandarder | Silisium råvaretyper | Overflatestandarder | Former og størrelser | Søknader |
| Halvledere | 99.999999999%(11N) | Monokrystallinsk silisium | Flathet og jevnhet kontrolleres innen 1nm | Rund, diameter 150, 200, 300 mm | Hovedsakelig brukt til å lage brikker, er det mye brukt i kommunikasjon, forbrukerelektronikk, biler, industri, etc. |
| Solceller | 99.9999%左右(4-6N) | Det finnes både monokrystallinsk silisium og polykrystallinsk silisium, hvorav polykrystallinsk silisium utgjør ca. 60 %. | Standardene er lavere enn for halvlederfeltet | Firkantede sidelengder kan være 125 mm, 150 mm og 156 mm | Hovedsakelig brukt til å lage solceller, mye brukt i fotovoltaiske kraftstasjoner, distribuert solcellekraftproduksjon på taket og andre felt |
Renhetsklassifiseringsindeks for silisiumwafer |
||
| Renhetsnivå av silisiumwafer | Silisium wafer renhet | Silisium wafer urenheter |
| 6N nivå | Renhet er 99,9999 % | Det vil si at urenhetene ikke overstiger 10 ppm |
| 7N nivå | Renhet er 99,99999 % | Det vil si at urenhetene ikke overstiger 1 ppm |
| 8N nivå | Renhet er 99,999999 % | Det vil si at urenhetene ikke overstiger 0.1 ppm |
| 9N nivå | Renhet er 99,9999999 % eller mer | Det vil si at urenhetene ikke overstiger 0.01 ppm |
Silisium wafer renhetsindeks etter applikasjon |
|
| Klassifisering etter bruksrenhet | Spesifikke indikatorer |
| Krystallinsk silisium | Krystallinsk silisium er syntetisert fra diamant og silikasand, og produktrenheten når 99,999%. |
| Halvleder silisium | Halvledersilisium oppnås ved å viderebearbeide krystallinsk silisium. Renheten til halvledersilisium er så høy som 99,9999 %, som er en oppgradert versjon av krystallinsk silisium. |
| Elektronisk silisium | Elektronisk silisium brukes til å produsere elektroniske enheter. Dens renhet når 99,999999%. Elektronisk silisium har 6 flere 9-ere enn krystallinsk silisium, også kjent som seks-ni klasse silisium. |
| Industriell silisium | Industriell silisium brukes til å produsere industrielle deler. Renheten når generelt 99,99 %-99.999 %, noe som er litt dårligere enn krystallinsk silisium. |
| Silisium av produksjonskvalitet | Silisium i produksjonsgrad brukes til å produsere produksjonsdeler. Renheten er vanligvis mellom 99,95 %-99.99 %, som er litt dårligere enn krystallinsk silisium. |
| Generelt silisium | Generelt silisium er et mer vanlig silisium. Renheten er vanligvis mellom 99 %-99,8 %, som er det vanligste silisiumstoffet. |