produktbeskrivelse
|
Parametere for polert silisiumwafer 1 |
||||||
|
Diameter |
1 tomme-12 tomme |
|||||
|
Tykkelse |
280um, 300um, 380um, 400um, 500um, 525um, 675um og tilpass tykk |
|||||
|
Type |
P-type og N-type |
|||||
|
Dopet |
Udopet, dopet bor, dopet fosfor eller arsenikk |
|||||
|
Orientering |
<100>, <111>, <110> |
|||||
|
Resistivitet |
1-10ohm.cm, 0.001-0.005ohm.cm, >1000ohm.cm and >20 000 ohm.cm |
|||||
|
Pusse |
DSP |
|||||
|
Metode |
CZ og FZ |
|||||
|
Oksydlag |
100, 200, 300nm+/-10 % |
|||||
|
Parametere for polert silisiumwafer 2 |
||||||
|
Diameter |
50,8 mm |
76,2 mm |
100 mm |
125 mm |
150 mm |
200 mm |
|
Diametertoleranse |
±0,4 mm |
±0,5 mm |
±0,5 mm |
±0,3 mm |
±0,3 mm |
±0,2 mm |
|
Tykkelse |
280um |
381um |
525um |
625um |
675um |
725um |
|
Tykk toleranse |
±20um |
±20um |
±20um |
±15um |
±15um |
±15um |
|
TTV |
Mindre enn eller lik 8um |
Mindre enn eller lik 10um |
Mindre enn eller lik 10um |
Mindre enn eller lik 10um |
Mindre enn eller lik 10um |
Mindre enn eller lik 10um |
|
Bøyning |
Mindre enn eller lik 25um |
Mindre enn eller lik 30um |
Mindre enn eller lik 40um |
Mindre enn eller lik 40um |
Mindre enn eller lik 50um |
Mindre enn eller lik 50um |
|
TIR |
Mindre enn eller lik 5um |
Mindre enn eller lik 6um |
Mindre enn eller lik 6um |
Mindre enn eller lik 5um |
Mindre enn eller lik 5um |
tilpasse |
|
Lengde på primærleilighet |
16.0±2.0mm |
22,5±2,5 mm |
32,5±2,5 mm |
42,5±2,5 mm |
57,5±2,5 mm |
tilpasse |
|
Lengde på sekundær Flat |
8.0±2.0mm |
11,5±1,5 mm |
18.0±2.0mm |
27,5±2,5 mm |
37,5±2,5 mm |
-- |
|
Merk: Hvis det er spesielle parameterkrav, kan det tilpasses |
||||||
Dobbelside polerte silisiumskiver er et banebrytende produkt som revolusjonerer halvlederindustrien. Disse skivene går gjennom en intensiv poleringsprosess som sikrer at de har en glatt, skinnende og lytefri overflate på begge sider.
Fordelene ved å bruke polerte silisiumskiver på to sider er uendelige. For det første gir de utmerket elektrisk ytelse som gjør dem ideelle for bruk i høyytelseselektronikk som mikroprosessorer og minneenheter. For det andre tillater deres høykvalitetsoverflate mer nøyaktig og presis mønster av halvlederlagene. Dette fører igjen til økt utbytte og effektivitet i produksjonsprosessen.
Dessuten gir den doble poleringsprosessen skivene større mekanisk styrke og holdbarhet, noe som betyr at de er i stand til å motstå påkjenningene i produksjonsprosessen uten skade. Dette fører igjen til mindre nedetid og færre tap på grunn av wafer-brudd.
Oppsummert, hvis du ønsker å ta halvlederproduksjonen til neste nivå, så er det å bruke polerte silisiumwafere på to sider. Fordelene er mange, og kvaliteten og påliteligheten til disse skivene er uovertruffen. Så hvorfor ikke dra nytte av denne banebrytende teknologien og heve produksjonsevnene dine i dag?
Produktbilde

hvorfor velge oss
Produktene våre er utelukkende hentet fra verdens fem beste produsenter og ledende innenlandske fabrikker. Støttet av svært dyktige nasjonale og internasjonale tekniske team og strenge kvalitetskontrolltiltak.
Vårt mål er å gi kundene omfattende en-til-en-støtte, og sikre jevne kommunikasjonskanaler som er profesjonelle, tidsriktige og effektive. Vi tilbyr en lav minimumsbestillingsmengde og garanterer rask levering innen 24 timer.
Fabrikkutstilling
Vårt store lager består av 1000+ produkter, noe som sikrer at kunder kan legge inn bestillinger for så lite som ett stykke. Vårt selveide utstyr for terninger og baksliping, og fullt samarbeid i den globale industrikjeden gjør oss i stand til å sende raskt for å sikre kundetilfredshet og bekvemmelighet.



Vårt sertifikat
Vårt firma er stolt av de forskjellige sertifiseringene vi har oppnådd, inkludert vårt patentsertifikat, ISO9001-sertifikat og National High-Tech Enterprise-sertifikat. Disse sertifiseringene representerer vår dedikasjon til innovasjon, kvalitetsstyring og forpliktelse til fortreffelighet.
Populære tags: dobbel side polerte silisium wafere, Kina dobbel side polerte silisium wafere produsenter, leverandører, fabrikk

























